次世代クリーンルーム構築技術
close今後ますます高精度、高品質が求められる次世代の半導体・液晶製造では、従来の温湿度・塵埃の制御に加えて、ケミカル汚染(有機汚染)・微細振動・電源電位変動・電磁波など、製造に影響を与えるクリーンルームのゆらぎを徹底して排除した施設(フラクチュエーション・フリー・ファシリティ:FFF)が必要となります。熊谷組では、クリーンルーム・ユーティリティーメーカーとの緊密な連携により、フラクチュエーション・フリー・ファシリティを効率的に短期間で提供いたします。
今後ますます高精度、高品質が求められる次世代の半導体・液晶製造では、従来の温湿度・塵埃の制御に加えて、ケミカル汚染(有機汚染)・微細振動・電源電位変動・電磁波など、製造に影響を与えるクリーンルームのゆらぎを徹底して排除した施設(フラクチュエーション・フリー・ファシリティ:FFF)が必要となります。熊谷組では、クリーンルーム・ユーティリティーメーカーとの緊密な連携により、フラクチュエーション・フリー・ファシリティを効率的に短期間で提供いたします。